崗位職責(zé)是什么
光刻崗位是半導(dǎo)體制造工藝中的核心環(huán)節(jié)，主要負(fù)責(zé)利用光刻技術(shù)將電路設(shè)計(jì)精確地轉(zhuǎn)移到硅片上，以創(chuàng)建微電子元件。這一過程涉及到精密的光學(xué)系統(tǒng)、化學(xué)反應(yīng)和精密的設(shè)備操作，是保證芯片性能和良率的關(guān)鍵步驟。
崗位職責(zé)要求
1. 精通光刻工藝流程，包括曝光、顯影、刻蝕等步驟，理解其原理和影響因素。
2. 具備扎實(shí)的物理、化學(xué)基礎(chǔ)，特別是光學(xué)和半導(dǎo)體科學(xué)知識(shí)。
3. 熟練操作光刻設(shè)備，包括步進(jìn)掃描光刻機(jī)、投影光刻機(jī)等，并能進(jìn)行日常維護(hù)和故障排除。
4. 精細(xì)操作，有高度的注意力和準(zhǔn)確性，能在微米甚至納米級(jí)別保持高精度。
5. 具備良好的實(shí)驗(yàn)室安全意識(shí)，嚴(yán)格遵守操作規(guī)程，防止污染和損害設(shè)備。
6. 持續(xù)關(guān)注行業(yè)動(dòng)態(tài)，學(xué)習(xí)新技術(shù)和新方法，提升工藝水平。
崗位職責(zé)描述
光刻工程師在日常工作中，會(huì)根據(jù)設(shè)計(jì)圖紙準(zhǔn)備光刻膠，調(diào)整光刻設(shè)備參數(shù)，進(jìn)行曝光和顯影過程。他們需要監(jiān)控整個(gè)過程中的各項(xiàng)指標(biāo)，如曝光時(shí)間、光源強(qiáng)度、顯影液濃度等，確保圖案轉(zhuǎn)移的精確性。他們還需要分析和解決可能出現(xiàn)的問題，如分辨率不足、圖形失真等，通過優(yōu)化工藝參數(shù)來提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
此外，光刻工程師還可能參與新設(shè)備的引進(jìn)和調(diào)試，以及新工藝的研發(fā)，與研發(fā)團(tuán)隊(duì)緊密合作，推動(dòng)技術(shù)進(jìn)步。他們需要撰寫和更新操作手冊(cè)，培訓(xùn)新員工，確保團(tuán)隊(duì)的整體技術(shù)水平和操作規(guī)范。
有哪些內(nèi)容
1. 設(shè)備操作與維護(hù)：熟練掌握光刻設(shè)備的操作，定期進(jìn)行設(shè)備保養(yǎng)，及時(shí)處理設(shè)備故障。
2. 工藝優(yōu)化：通過實(shí)驗(yàn)和數(shù)據(jù)分析，改進(jìn)光刻工藝，提高圖案轉(zhuǎn)移的準(zhǔn)確性和一致性。
3. 質(zhì)量控制：監(jiān)測(cè)產(chǎn)品良率，分析不良品原因，制定改善措施，確保產(chǎn)品質(zhì)量。
4. 技術(shù)研發(fā)：參與新工藝、新材料的研究，推動(dòng)光刻技術(shù)的創(chuàng)新和發(fā)展。
5. 文件編寫與培訓(xùn)：編寫和更新操作規(guī)程，為團(tuán)隊(duì)成員提供培訓(xùn)，確保規(guī)范操作。
6. 團(tuán)隊(duì)協(xié)作：與設(shè)計(jì)、制程、質(zhì)量控制等部門密切合作，共同解決生產(chǎn)中的問題。
7. 實(shí)驗(yàn)室管理：保持工作環(huán)境整潔，確保實(shí)驗(yàn)室安全，遵循環(huán)保規(guī)定處理廢棄物。
光刻崗位的職責(zé)涵蓋了從生產(chǎn)操作到技術(shù)研發(fā)的多個(gè)層面，要求工程師不僅具備專業(yè)技能，還需有持續(xù)學(xué)習(xí)和解決問題的能力，以應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的快速變化和技術(shù)挑戰(zhàn)。
光刻崗位職責(zé)范文
第1篇 光刻設(shè)備工程師崗位職責(zé)
光刻設(shè)備工程師 一,光刻工程師
工作職責(zé):
1.黃光設(shè)備move in以及驗(yàn)收;
2.定義機(jī)臺(tái)相關(guān) sop;
3.機(jī)臺(tái)parts 管理維護(hù)以及后續(xù)維修,成本降低;
4.調(diào)試機(jī)臺(tái)參數(shù)以滿足研發(fā)需求;
5.異常分析以及處理。
任職需求:
1.擁有半導(dǎo)體8寸黃光設(shè)備經(jīng)驗(yàn),熟悉半導(dǎo)體設(shè)備tel,nikon; stepper,lamination,aligner機(jī)臺(tái);
2.良好的學(xué)習(xí)能力以及溝通能力;
3.能接受無塵室工作以及適當(dāng)?shù)募影?
4.具備設(shè)備電路理解能力,具有設(shè)備機(jī)構(gòu)維修能力優(yōu)先;
5.有pvd, pecvd, e-gun, icp等薄膜蝕刻設(shè)備的經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先。
二、黃光工程師
崗位需求:
1.擁有半導(dǎo)體8寸蝕刻設(shè)備經(jīng)驗(yàn),熟悉半導(dǎo)體設(shè)備lam,amat機(jī)臺(tái)(干法蝕刻1人)。
2.擁有半導(dǎo)體8寸蝕刻設(shè)備經(jīng)驗(yàn),熟悉半導(dǎo)體設(shè)備wet機(jī)臺(tái)kaijo/dns/scientech (濕法蝕刻1人)。
3.良好的學(xué)習(xí)能力以及溝通能力。
4.能接受無塵室工作以及適當(dāng)?shù)募影唷?/p>
崗位職責(zé):
1.蝕刻設(shè)備維修保養(yǎng)以及工藝調(diào)試。
2.定義機(jī)臺(tái)相關(guān) sop。
3.機(jī)臺(tái)parts 管理維護(hù)以及后續(xù)維修,成本降低。
4.調(diào)試機(jī)臺(tái)參數(shù)以滿足研發(fā)需求。
5.異常分析以及處理。
一,光刻工程師
工作職責(zé):
1.黃光設(shè)備move in以及驗(yàn)收;
2.定義機(jī)臺(tái)相關(guān) sop;
3.機(jī)臺(tái)parts 管理維護(hù)以及后續(xù)維修,成本降低;
4.調(diào)試機(jī)臺(tái)參數(shù)以滿足研發(fā)需求;
5.異常分析以及處理。
任職需求:
1.擁有半導(dǎo)體8寸黃光設(shè)備經(jīng)驗(yàn),熟悉半導(dǎo)體設(shè)備tel,nikon; stepper,lamination,aligner機(jī)臺(tái);
2.良好的學(xué)習(xí)能力以及溝通能力;
3.能接受無塵室工作以及適當(dāng)?shù)募影?
4.具備設(shè)備電路理解能力,具有設(shè)備機(jī)構(gòu)維修能力優(yōu)先;
5.有pvd, pecvd, e-gun, icp等薄膜蝕刻設(shè)備的經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先。
二、黃光工程師
崗位需求:
1.擁有半導(dǎo)體8寸蝕刻設(shè)備經(jīng)驗(yàn),熟悉半導(dǎo)體設(shè)備lam,amat機(jī)臺(tái)(干法蝕刻1人)。
2.擁有半導(dǎo)體8寸蝕刻設(shè)備經(jīng)驗(yàn),熟悉半導(dǎo)體設(shè)備wet機(jī)臺(tái)kaijo/dns/scientech (濕法蝕刻1人)。
3.良好的學(xué)習(xí)能力以及溝通能力。
4.能接受無塵室工作以及適當(dāng)?shù)募影唷?/p>
崗位職責(zé):
1.蝕刻設(shè)備維修保養(yǎng)以及工藝調(diào)試。
2.定義機(jī)臺(tái)相關(guān) sop。
3.機(jī)臺(tái)parts 管理維護(hù)以及后續(xù)維修,成本降低。
4.調(diào)試機(jī)臺(tái)參數(shù)以滿足研發(fā)需求。
5.異常分析以及處理。
第2篇 光刻工藝崗位職責(zé)
光刻工藝工程師 器件產(chǎn)線建設(shè) 1、 協(xié)助器件生產(chǎn)線建設(shè)的設(shè)備需求調(diào)研和制定;
2、 調(diào)研器件生產(chǎn)線相關(guān)工藝和監(jiān)控設(shè)備;
3、 編制設(shè)備技術(shù)要求、技術(shù)協(xié)議和驗(yàn)收大綱,驗(yàn)收和調(diào)試生產(chǎn)線設(shè)備;
4、 進(jìn)行設(shè)備相關(guān)工藝條件的調(diào)試和固化。
光刻工藝研發(fā) 1、 主要負(fù)責(zé)光刻相關(guān)工藝的開發(fā)
2、 解決產(chǎn)線工藝異常,提高成品率
3、 編寫工藝文件,培訓(xùn)產(chǎn)線操作人員
4、 保證生產(chǎn)工藝的穩(wěn)定
5、 開展新工藝流程的改良,試驗(yàn)與驗(yàn)證;
6、 開展器件新工藝固化,良率提升跟蹤與成本優(yōu)化;
器件產(chǎn)線建設(shè) 1、 協(xié)助器件生產(chǎn)線建設(shè)的設(shè)備需求調(diào)研和制定;
2、 調(diào)研器件生產(chǎn)線相關(guān)工藝和監(jiān)控設(shè)備;
3、 編制設(shè)備技術(shù)要求、技術(shù)協(xié)議和驗(yàn)收大綱,驗(yàn)收和調(diào)試生產(chǎn)線設(shè)備;
4、 進(jìn)行設(shè)備相關(guān)工藝條件的調(diào)試和固化。
光刻工藝研發(fā) 1、 主要負(fù)責(zé)光刻相關(guān)工藝的開發(fā)
2、 解決產(chǎn)線工藝異常,提高成品率
3、 編寫工藝文件,培訓(xùn)產(chǎn)線操作人員
4、 保證生產(chǎn)工藝的穩(wěn)定
5、 開展新工藝流程的改良,試驗(yàn)與驗(yàn)證;
6、 開展器件新工藝固化,良率提升跟蹤與成本優(yōu)化;
第3篇 光刻工藝工程師崗位職責(zé)
光刻工藝工程師 江蘇宜興德融科技有限公司 江蘇宜興德融科技有限公司,德融 崗位要求:
1.負(fù)責(zé)光刻模塊日常工作;
2.光刻模塊系統(tǒng)文件編寫與更新;
3.維護(hù)光刻工藝穩(wěn)定,排除產(chǎn)線異常;
4.開發(fā)與光刻模塊有關(guān)的新工藝。
任職需求:
1.本科及以上學(xué)歷,光學(xué)、電子工程、半導(dǎo)體物理、物理、化學(xué)、材料等專業(yè);
2.40周歲以下,有半導(dǎo)體光刻工藝3年及以上工作經(jīng)驗(yàn),精通半導(dǎo)體光刻工藝制程。
第4篇 光刻工程師崗位職責(zé)
光刻工程師 武漢光谷量子技術(shù)有限公司 武漢光谷量子技術(shù)有限公司,光谷量子 職責(zé)描述:
1. 負(fù)責(zé)光刻機(jī)及光刻相關(guān)設(shè)備的安裝調(diào)試、驗(yàn)收、及異常情況的處理;
2. 負(fù)責(zé)光刻工藝的開發(fā)和固化(包括光刻膠的選擇和涂布、曝光、顯影等);
3. 參與新產(chǎn)品導(dǎo)入流程工作,制定新產(chǎn)品在線工藝參數(shù);
4. 負(fù)責(zé)解決光刻工序日常工藝異常;
5. 日常監(jiān)控?cái)?shù)據(jù)進(jìn)行spc分析;
6. 對(duì)現(xiàn)有工藝進(jìn)行優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)工藝窗口最大化,能耗最低化,操作簡(jiǎn)單化;
7. 負(fù)責(zé)光刻相關(guān)文件的編制及修訂;
8. 負(fù)責(zé)光刻掩膜版的設(shè)計(jì)與管理;
9. 對(duì)技術(shù)員,操作員進(jìn)行針對(duì)其崗位的培訓(xùn),確保其具備相應(yīng)的能力;
10. 領(lǐng)導(dǎo)指派的其他工作。
任職條件:
1. 熟悉aligner、stepper、track設(shè)備操作及工作原理;
2. 能熟練使用l-edit軟件制圖;
3. 熟悉光刻機(jī)的aberration測(cè)試方法;
4. 掌握doe方法,熟練運(yùn)用數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì),工藝模擬等技能支持合理的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì);
5. 具備一定學(xué)習(xí)理解能力、判斷分析能力,能熟練使用office、matlab等軟件,有行業(yè)相關(guān)的英文讀寫能力;
6. 具備良好的團(tuán)隊(duì)合作精神,能吃苦耐勞、適應(yīng)一定強(qiáng)度的工作壓力;
7. 誠(chéng)實(shí)守信、善于思考,性格積極主動(dòng)、有創(chuàng)新精神;
8. 有較強(qiáng)的責(zé)任心及敬業(yè)精神,身體健康,積極向上。
9.有apd、pin或fpa芯片制作工藝工作經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先考慮。
第5篇 半導(dǎo)體光刻工程師崗位職責(zé)
litho process engineer半導(dǎo)體光刻工藝工程師 凸版光掩模 上海凸版光掩模有限公司,凸版光掩模,凸版光掩模 職責(zé)描述:
? 負(fù)責(zé)ebm光刻設(shè)備的日常管理、及相關(guān)供應(yīng)商的管理;
? 確保光刻相關(guān)工藝穩(wěn)定;
? 能夠熟練操作工藝設(shè)備并處理工藝異常,查找異常原因,提出具體整改措施并實(shí)施;
? 各類光刻工藝質(zhì)量文件的編寫與完善;
? 能夠獨(dú)立完成新產(chǎn)品新工藝開發(fā)和導(dǎo)入,光刻相關(guān)工藝優(yōu)化與深度開發(fā);
? 制作新產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝流程
? 不斷改善工藝流程,提高產(chǎn)品的產(chǎn)量及質(zhì)量,降低生產(chǎn)周期,良率控制;
? 制定工藝規(guī)范文件,對(duì)技術(shù)員、操作人員技能培訓(xùn)。
任職要求:
? 微電子、物理、化學(xué)或半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)本科及以上學(xué)歷;
? 熟悉光刻工藝原理和流程,可獨(dú)立完成工藝調(diào)試,處理工藝異常;
? 熟悉光刻制程,能夠獨(dú)立完成制造過程中工藝的oi或sop文件,相關(guān)工作經(jīng)驗(yàn)至少5年;
? 具備5年以上的光刻工作經(jīng)驗(yàn),有光刻機(jī)使用經(jīng)驗(yàn)及產(chǎn)品批量生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的優(yōu)先;
? 英語或日語使用熟練;
? 良好的溝通及團(tuán)隊(duì)合作能力。
